镀液组成：

氰化亚铜          50-65克/升

氰化钠            80-90克/升

氢氧化钠          1-3克/升

诺切液HN-CY2    30-40毫克/升

光亮剂HN-CY3    7毫克/升

光亮剂HN-CY4    5毫克/升

操作条件与工艺：

  铜含量           35 ~ 46克/升

  游离氰化钠       15 ~ 23克/升

  氢氧化钠         1 ~ 3克/升

  温度             55 ~ 65℃

电流密度          2 ~ 6安培/平方分米

阳极              无氧电解铜

过滤              连续过滤

搅拌方法          阴极移动

消耗量：

 光亮剂HN-CY3  80 ~ 100毫升/1000安培小时

 光亮剂HN-CY4  250 ~ 300毫升/1000安培小时

1．镀层结晶细致，孔隙率低。

2．镀层光亮平滑，覆盖能力好。

3．镀液稳定，杂质容忍度高，容易维护。

4．适用于钢铁件、铜及铜合金件、特别是锌合金件的电镀。

5．可采用氰化钾或氰化钠开缸，达到同样的效果。