镀液组成：

       氰化亚铜        50 ~ 65克/升

       氰化钠           80 ~ 90克/升

       氢氧化钠          1 ~ 3克/升

       诺切液HN-CX2   30 ~ 40毫升/升

       开缸剂HN-CX3      5 ~ 7毫升/升

操作条件与工艺：

       铜含量           37 ~ 45克/升

       游离氰化钠      15 ~ 23克/升

       氢氧化钠     1 ~ 3克/升

       温度                   55 ~ 65℃

       电流密度          2 ~ 6安培/平方分米

       阳极             无氧电解铜

       过滤                 连续过滤

       搅拌方法             阴极移动

消耗量：

  补给剂HN-CX4   250 ~ 350毫升/1000安培小时

1．分散能力好，低电位区镀层更为光亮，滚镀效果极佳。

2．镀层结晶细致，孔隙率低，耐蚀性能好。

3．镀液稳定，杂质容忍度高，容易维护。